对「多腔并行PVT传输设备」的第二次整装调试，从下午一点一直进行到了晚上十点。
中间十六人团队出去吃了一次饭，但都是匆匆扒拉了一顿。
随着一个个零部件被精密安装，眼前数十立方米的大型设备逐渐完备。
整体来看，这台设备好似微缩版的「小别墅」，生成腔双联六个形成规整的长方体，而原料仓为了均匀性设置在上方，侧面还有配套的控制及电气系统。
由於最高的地方接近三米，背面还设置了一截钢制楼梯。
比起以前的CVD设备，眼前的这个更具有工业气息，当然不是粗犷工业风，而是科技工业风。
操作面板被点亮，展现出和其他自研设备一脉相承的UI界面和中文指示，工作人员将提前由「高温反应炉」生成的高纯度碳化矽粉末，用特制容器加入了原料仓中，并在得到翟达首肯後启动了仪器.
厚重的原料仓开始营造近真空环境，实验室内开始出现轻微的喻喻声足足15分钟後，设备被加热至2300°以上，真空预烧除杂後，气化的碳化矽开始传输至生长区。
每个腔室内，都有用於引导排列的「籽晶表面」圆盘，使得碳化矽气体会按照预定需求结晶排列。
在这一物质的250种排列晶型中，只有4H-SiC晶型可用，所以温度梯度要控制在土5°C以内。
翟达选择的衬底尺寸，是目前市场上属於先进、但未超标准的「6英寸」，不过在六腔体并联，且设备自研的情况下，效率依旧完爆。
说起这个「6英寸」还有点小郁闷，相当於15.24厘米，有零有整的..
作为全产业链自主可控，他们完全可以用公制单位而非英制单位，会更有助於标准化和体系化，奈何产业技术是有惯性的。
早期开发「功率器件制造工艺」时，衬底依赖英飞凌，东西都是配套的，现在也只能「6英寸」。
类似的「产业惯性」在其他公司也是一样，英制尺寸这种早就该被抛弃的东西，大多都是几十年来的沿袭，普通公司想改也改不了，渐渐成为行业习惯。
但他们全产业链自主可控了，就不需要搭理了。
再叠代一轮吧...等日後，下一阶段他就会逐步改为公制，不搞「8英寸」了，搞「20CM」衬底即可。
等待了足足一小时，加热、气相传输、温度传感等一切正常，托盘上终於观测到了碳化矽沉积0.3毫米。
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