障碍已不存在，但设备障碍却依旧是永远的痛。
华芯国际采用的海外设备占比超过90％，国产化率只有不到10％，如果全部使用国产设备，华芯国际也只能生产90nm级别的芯片……
90nm芯片，那是造车的，不是造手机的！
而制约华芯国际最重要的设备，叫做光刻机！
光刻机是生产芯片的关键，也是国内半导体产业升级道路上急需攻克的难点。
目前，全世界主流的光刻机分为两种，一种是DUV光源，一种是EUV光源。
其中EUV光刻机采用高能紫外线，可以获得更高的效率和良品率。
相比之下，DUV光刻机则需要反复多次曝光、用数量换取质量，才有可能达到EUV光刻机的精度。
但反复曝光，却会使得产品良品率大幅度降低，同时生产成本大幅度提高。
造一台光刻机有多难呢？
很难，非常难！
甚至难度丝毫不比当初造两弹一星小多少。
光刻机涉及光学、机械、电子、物理、化学、材料分子等多个领域，是所有半导体制造设备中，技术含量最高的一个。
目前全世界也只有ASML公司能生产EUV光刻机，但他们并不是单独靠自己研发出来的，而是集英特尔、三煋、台积电等全球多家巨头、多年投入研发、耗尽无数资源的结果。
目前，全球没有任何一个国家可以单独制造出EUV光刻机，就连灯塔国也不行！
庞大的市场需求和稀少的产出，加上技术上的垄断，导致EUV光刻机在市场上的售价达到了惊人了10亿元，比DUV光刻机贵了40％之多！
价钱贵倒是其次，关键是这东西属于战略级珍宝，你想买都买不到。
经由资本联盟协商批准，EUV光刻机目前也仅卖给三煋和台积电两家代工厂。
为什么是他们？
因为这两家背后，都是那些大资本家绝对控股，大家都是自家人。
且ASML的产能极其有限，从第一台EUV光刻机问世以来，截至目前好几年过去了，一共才交付了100台而已。
就连比亚迪都没有资格购买，更别提钉子了。
而且，他们也绝不允许这种战略级的东西被外人掌握！
按照新一代光刻机处理晶圆的标准，每小时不会低于170片，且良品率一般超过90％。
换算下
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