“而TSV则是在芯片和芯片之间，晶圆和晶圆之间制作垂直导通孔并填充金属等导电材料来实现芯片垂直互连，首先是利用深反应离子刻蚀（DRIE）制作TSV孔，等离子增强化学气相沉积（PECVD）制作介电层，物理气相沉积（PVD）制作阻挡层和种子层、电镀铜（Cu）填孔，化学机械抛光（CMP）去除多余的金属。在3D集成时，还需要进行晶圆减薄和薄晶键合。”
“……”
王东来在台上侃侃而谈，下面的众人则是聚精会神地听着。
有的人则是听得如痴如醉，时而恍然大悟，时而疑惑不解。
而有的人则是完全一脸懵逼，如听天书。
说实话，在国内的环境之中，很少出现过这样的画面。
道理也很简单，因为真正的技术人员，已经将全部的精力放到了技术研发上面，根本不会待在管理岗位，更不会在当老板了之后，还在继续研发技术。
还有一个原因，那就是国内的公司其实并不怎么重视技术，也不重视技术人才。
你不干有的是人干！
这句话，深刻地刻在了国人的骨子里。
而王东来却不一样，技术实力强，又是公司创始人。
所以，就形成了这样的画风。
王东来的思路分享并没有持续太长时间，半个小时也就结束了。
这次分享，王东来并没有故意藏私，而是大大方方地拿出了自己的真本事。
先进封装技术是很重要，但是又不是那么的重要。
重要是因为国内落后的半导体现状，可以因为先进封装技术，在一定程度上将芯片性能追赶上去。
不那么重要则是因为芯片制程还会继续发展，而先进封装技术的发展空间却很有限。
王东来一直都没有放弃过实现半导体技术全面突破的想法。
从硅晶体，到封装技术，再到刻蚀装备，光刻胶，光刻机等等，都要完成突破。
对此，他也有这个信心，所以根本不怕国内其他厂商完成突破。
钱，是赚不够的，市场也不可能让一家彻底垄断。
等到王东来研发出更先进的技术之后，他就会把一些落后的技术卖出去。
眼下，只是讲述自己的研发思路，也能起到一个筛选的作用。
如果真的有公司能从王东来的分享中，完成了技术的突破，这样的公司才是王东来真正想要看到的公司。
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