虽然跟外面的比，他们手里这家夥还差着身位。
人家最顶尖的极紫外光刻（EUV），早就把芯片推到了2纳米节点上。
他们这台浸没式光刻（DUV）连同多重曝光，往极限里一点一点地逼，才把七纳米硬生生啃了下来，工艺更费，良率也更难看。
可这条路能不能走通，从来就不只看单颗芯片的成色。
单颗追不上，那就拿数量去填，成千上万颗加起来连成一片，靠着规模硬生生把那点差距给抹平了不少。
何况国内的电费便宜，电力又管够，这麽大一片的芯片也就喂得起。
这条路是真真切切，被他们走通了。
而且这条路能走到今天，里面离不开的还是……李东那套降维算法。
是那套算法解决了流热耦合实时控制。
林伟到现在都还记得，当年那个在华轩杯复赛卷子最後一问里，写下“双光束激光干涉无掩模光刻”方案的高中生。
时间一晃，竟也有两年了。
这些年，林伟在各种场合，没少听见这个名字。
数学、太阳物理，甚至医疗上他都听见过李东这个名字。
“你到底还藏着多少东西呀，李东——教授！”
想到这儿，林伟居然忍不住笑了起来。
就在这时，他西装口袋里的手机震懂了起来。
这个点这种场合，能打进来的电话，多半没什麽好事。
林伟皱了皱眉，腾出一只手，把手机摸了出来，正要挂断。
可当他的视线，扫过屏幕上那个名字时……
他的动作，停住了。
林伟转过头，冲身旁那名技术员说道。
“这边你先盯着，我接个电话。”
说完他推开厂房的门，快步走了出去。
“您好，李东教授？”
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