占了整整一页纸。
【某实验小组为探究投影光刻系统的分辨能力，搭建了简化光刻实验装置：采用波长为λ的单色平行光作为曝光光源，通过数值孔径为 NA的投影物镜，将掩模上的精细图案投影到涂有光刻胶的晶圆表面，实现芯片图案的转移。
光刻系统的最小分辨线宽（可清晰区分的两条相邻线条的最小间距）遵循瑞利判据：
δ= 0.61λ/NA
其中数值孔径 NA = n・sinθ，n为物镜与晶圆之间介质的折射率，θ为物镜能接收的最大光线的半孔径角。
完成下列问题：】
这题一共三个问题，前两问可能成绩稍微好点的学生就能做出来，甚至都不用学霸。
但是第三题，你说他难吧，确实有奥赛难度，但不是顶尖的那种。
可是他的重点不是解出来，而是怎么解出来才最好。
李东下意识的抬头看了看四周。
此时距离考试结束还有四十分钟，大部分考生都还在抓耳挠腮地对付前面的计算题。
他旁边的那个考生，看着年纪特别小，顶多也就是高一的样子，此刻正咬着笔杆，对着这最后一道题发呆，卷子上大片空白。
“现在的小孩都这么卷了吗？高一就来参加这种比赛？”
李东心里吐槽了一句，随后收回目光，看向试卷。
前面两问李东提笔就写。
【1.求该光刻系统的最小分辨线宽δ₀】
解：由瑞利判据公式δ= 0.61λ/NA，代入数据λ=436nm，NA=0.35。
δ₀≈ 0.76μm。
【2.写出两种工业界常规的技术方案，并简述物理原理。】
这个阐述题，其实考的是学生的知识面，如果你整天读死书，那还真不一定知道。
不过李东在啃大物的时候，就有了解过相关的知识了。
他甚至还专门在网上找了新闻来看。
一个是用缩短波长的方案，比如使用DUV深紫外光之类的。
原理也很简单，就是δ与λ成正比。
另一个就是增大数值孔径了，比用如用浸没式光刻。
原理则是利用水等介质提高折射率n，从而增大NA。
前两问做完，李东停在了第三问上。
【3.请你基于高中物理波动光学（干涉与衍射）的核心知识，设计一种无
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